ABB濕製程分析儀(Wet Process Analyzer, WPA)針對清潔、蝕刻和剝離液槽的各種溶液組成提供濃度監測與程序控制，可最大化濕化學品使用週期，並將高單價濕化學品的廢物量減到最小，減少實驗室試驗相關費用。搭配的WPA ClippIR是專利的偵測頭，它獨特的設計完全避免藥槽被污染的發生，也使客戶能夠更容易地建立檢量線模型。ABB與客戶團隊的緊密合作，成功地共同開發出符合高科技先進製程所需求的化學組成與量測方法。
WPA分析儀的技術是利用紅外光譜提供化學品樣本的分子結構和組成的資訊，設計則可分析由酸和鹼組成的藥槽。監測酸或鹼的變化時，需經由監控NIR分析儀在水光譜上的一個微妙變動來達成，通常這樣微妙變動的幅度是相當小的，而ABB 分析儀卻可以靈敏地「看清楚」所發生的微妙變動。 在晶圓代工濕製程中，透過WPA簡易且高穩定分析及維護功能，有效並嚴格控制清洗槽中的化學組成濃度。
而在面板廠的創新銅製程之去光阻濕製程中，WPA分析儀的技術協助控制生產機台槽液中的去光阻劑和水濃度，以達到生產效益的提升。另從其廠務回收系統所回收的去光阻劑，用於分析其濃度後，確認是否補充新液再利用。除半導體晶圓代工及面板廠高度使用，在南科的某封裝測試廠中也使用此分析儀；更甚，機台設備商也選擇將此分析儀放置在其機台系統成為標準配備，輸出至新加坡的晶圓代工新廠中。
也由於能提供即時線上分析的產品技術特點，讓相關化學品供應商也樂意合作。WPA分析儀除可降低化學用品消耗量來降低成本，同時也確保清洗流程的品質和高產出，進而提高生產良率。永續節能的當下，這實在不失為一門好生意！